9ミクロンの酸化アルミニウム研磨粉

9ミクロンの酸化アルミニウム研磨粉は、高品質の工業用アルミナ粉を原料とし、特殊な製造工程で加工されています。製造されたアルミナ研磨粉の結晶形状は、平板状のように六角形に平らであるため、プレートレットアルミナまたは平板状アルミナと呼ばれています。

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9ミクロンの酸化アルミニウム研磨粉

9ミクロンの酸化アルミニウム研磨粉は、高品質の工業用アルミナ粉を原料とし、特殊な製造工程で加工されています。製造されたアルミナ研磨粉の結晶形状は、平板状のように六角形に平らであるため、プレートレットアルミナまたは平板状アルミナと呼ばれています。

板状アルミナのアルミナ純度は99%以上で、耐熱性、耐酸性・耐アルカリ性、高硬度という特徴があります。従来の研磨性球状粒子とは異なり、平坦なアルミナの底面は平坦であり、粒子は研削中にワークピースの表面にフィットし、スライド研削効果を生み出し、粒子の鋭い角がワークピース。一方、粉砕時の板状アルミナは、粒子表面に粉砕圧力が均一に分散され、粒子が壊れにくく、耐摩耗性が向上し、粉砕効率と表面仕上げが向上します。

 

半導体シリコンウェーハなどの半導体材料の場合、プレート酸化アルミニウムを適用すると、粉砕時間が短縮され、粉砕効率が大幅に向上し、粉砕機の損失が減少し、労力と粉砕コストが節約され、粉砕通過率が向上します。品質は有名な外国ブランドに近いです。

受像管のガラス球研削の作業効率は3-5倍に増加します。

認定製品率は10〜15%増加し、半導体ウェーハの認定製品率は99%以上に達します。

粉砕消費量は、通常のアルミナ研磨粉末よりも40〜40%少なくなります。

 

9ミクロン酸化アルミニウム研磨粉化学組成
化学保証値標準値
Al2O3≥99.0%99.36%
SiO2<0.2%0.017%
Fe2O3<0.1%0.03%
Na2O<0.6%0.35%

 

メッキ酸化アルミニウムラッピングパウダー物性
素材α-Al2O3
比重≥3.9g/cm3
モース硬度9.0

 

メッキ酸化アルミニウムラッピングパウダー利用可能なサイズ
タイプD3(um)D50(um)D94(ええと)
HXTA4550.5-56.233-38.520.7-24.5
HXTA4039-44.627.7-31.718〜20
HXTA3535.4-39.823.8-27.215-17
HXTA3028.1-32.319.2-22.313.4-15.6
HXTA2524.4-28.216.1-18.79.6-11.2
HXTA2020.9-24.113.1-15.38.2-9.8
HXTA1514.8-17.29.4-115.8-6.8
HXTA1211.8-13.87.6-8.84.5-5.3
HXTA098.9-10.55.9-6.93.3-3.9
HXTA056.6-7.84.3-5.12.55-3.05
HXTA034.8-5.62.8-3.41.5-2.1

 

9ミクロンの酸化アルミニウム研磨粉末の用途

1)電子工業:半導体単結晶シリコンウェーハ、水晶、および複合半導体(結晶ガリウム、リン酸化ナノ)の研削および研磨。

2)ガラス産業:水晶、水晶、キネスコープガラスシェルスクリーン、光学ガラス、液晶ディスプレイ(LCD)ガラス基板、水晶の研削と加工。

3)コーティング産業:プラズマ溶射用の特殊コーティングおよびフィラー。

4)金属およびセラミック加工産業:精密セラミック材料、焼結セラミック原料、高品質高温コーティングなど。

 

9ミクロン酸化アルミニウム研磨粉パッケージ:

20kgs /カートン、1MT/パレット

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